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三星混合键合HBM延至2029年

将与英伟达Feynman平台共同亮相
2026-07-23
来源:芯智讯

7月22日消息,据外媒Wccftech报道,随着高带宽内存(HBM)持续朝更高堆叠层数与更高带宽演进,市场普遍认为混合键合(Hybrid Bonding)为下一代HBM关键封装技术。不过韩国业界消息传出,三星可能将混合键合HBM大规模量产时间延后至2029至2030年,并与英伟达下一代Feynman AI GPU平台同步导入。

资料显示,引入混合键合技术将移除HBM堆叠中各层DRAM晶片之间的微凸块(Micro Bump),改采铜对铜(Cu-to-Cu)直接键合,可大幅缩短芯片层间距离,进一步提升带宽、降低功耗与改善散热,因此被视为关键技术。

消息人士指出,三星评估混合键合真正具备成熟量产条件的时间点,将落在2029至2030年,预计搭配英伟达Feynman AI GPU一同推出。

作为英伟达Rubin Ultra的下一代AI平台,传闻Feynman平台将采用3D堆叠架构,由英特尔负责部分先进封装,并搭载定制化高带宽内存(Custom HBM)。市场推测,Feynman可能采用HBM5或基于HBM5发展的定制化版本。

据悉,三星最快将于今年底开始在平泽厂区安装混合键合设备,但初期主要用于技术验证与产线建置,真正量产仍需等待2029至2030年。

不过,此前也有报导指出,混合键合最快从HBM4E开始导入。据悉,三星目前正向荷兰半导体设备商贝思半导体(BESI)采购约50台混合键合设备。但三星希望设备能定制化,当然也不排除评估韩国本土设备厂采购的可能性。

至于定制化HBM,是在3D系统级封装(SiP)架构下,以客户自有的逻辑芯片(Logic Die)取代传统HBM的Base Die,使内存与计算芯片整合更加紧密,进一步提升AI计算效率与系统效能。

值得注意的是,近期传出JEDEC正研议放宽HBM封装厚度规范,使HBM4E仍可沿用既有热压键合技术,降低业者短期内导入混合键合的迫切性。三星与SK海力士等大厂都可能将混合键合全面商用的时间点延后至HBM5世代,以配合英伟达Feynman AI GPU问世时间。

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