1月5日消息，据台媒《联合报》报道，针对日本半导体设备大厂Tokyo Electron（TEL）工程师陈力铭及台积电工程师涉嫌泄漏台积电2nm关键技术一案，中国台湾高检署在最新的调查当中发现，台积电另外一名陈姓员工也有窃取核心技术给陈力铭，且TEL卢姓员工也有毁灭证据行为，因此对这2人及TEL追加起诉。

根据此前调查显示，台积电离职工程师陈力铭转投至TEL公司担任行销及产品经理，疑因害怕“掉单”以及改善机台表现良率等原因，从2023年8月起至2025年5月，找上过往台积电同事吴秉骏及戈一平帮忙，以笔记本电脑远程登入台积电系统后，持手机偷拍台积电制程或实验结果等机密资料共四次，事后将部分机密输入工作日志回报TEL。

2025年8月底，台湾智慧财产检察分署起诉陈力铭、吴秉骏、戈一平三人，认定三人窃取台积电核心关键技术营业秘密，涉犯营业秘密法、安全法等罪嫌，各请求判处有期徒刑14年、9年、7年。

随后在2025年12月，高检署认定TEL公司也涉嫌犯安全法等四罪责，所以追加起诉TEL，分别求处罚金新台币4,000万元、800万元、4,000万元、4,000万元，并请定罚金新台币1.2亿元。

最新披露的起诉书指出，检方在侦办此案期间，陈力铭在侦查中坦承犯行，主动供出共犯——陈姓台积电员工，因此请求判处有期徒刑降至7年，如法院认为符合台湾安全法减轻其刑规定，建请依法减刑。

高检署2025年11月10日，指挥调查局新竹市调查站，前往云林、台南搜索陈姓员工住居所，向法院申请羁押禁见获批准。但是陈姓员工被捕后态度欠佳，请求判处有期徒刑8年8月。

卢姓员工在得知被告陈力铭遭台积电发觉犯罪行为后，企图推卸责任，删除了陈力铭上传的相关档案，有妨害刑事案件调查的行为，且被捕后否认犯案，请判处1年有期徒刑。

TEL公司于本案查证过程中，均按检察官要求提供相关事证，配合调查，对厘清案情尚有助益，因此请求将处罚金额降至新台币2500万元。

此外，高检署指出，检察官在侦办期间，为厘清TEL公司是否符合台湾安全法第8条第7项所称“尽力为防止行为”的要件，发现该公司于云端硬盘内，尚存有台积电核心关键技术项“项次19”，也就是“14nm以下制程之IC制造技术及其关键气体、化学品及设备技术”等营业秘密资料，清查后发现正是陈姓员工所窃取。