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三星公布HBM三阶段演进蓝图

2026-08-27
来源:芯智讯
关键词: 三星 HBM 先进封装

随着HBM面临带宽、功耗与封装尺寸等多重瓶颈,三星正积极寻求下一代HBM架构的突破。根据三星近日在Hot Chips 2026上披露的技术蓝图,其HBM演进方向可分为三个阶段,从释放芯片面积、扩充功能,到最终实现zHBM 3D整合。

与SK海力士一样,三星的目标同样是朝3D堆叠架构发展,即将HBM直接堆叠在AI加速器上,打造新一代zHBM架构。

三星DRAM设计团队成员Sangwook Han首先回顾了HBM基本架构,包含Core Die(核心芯片)和Base Die(基础芯片)。Core Die主要包含核心电路与DRAM内存单元;Base Die位于HBM堆叠结构的底部,负责处理各项DRAM相关功能。目前Core Die最多可堆叠至16层。

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第一阶段:释放xPU芯片面积,进一步扩充功能

三星目前的最新发力方向在于定制化HBM,这也是其所谓的第一阶段。

标准HBM中的Base Die主要包含基本数据与测试路径功能;而定制化HBM则将利用先进逻辑制程,在Base Die内整合类似SoC的功能,同时共享标准的Core Die堆叠。

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三星的目标是将原本放在AI芯片(xPU)中的部分功能,转移到HBM的Base Die中(因其本身即为逻辑芯片),从而释放xPU的芯片面积。节省下来的面积可用于增加CPU、GPU、NPU或其他AI运算单元,实现功能扩充。同时,三星HBM4已导入D2D PHY,取代传统HBM PHY,通过缩短HBM与xPU之间的数据传输路径,降低界面电路面积与数据传输功耗。

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不过,从HBM4迈向HBM5的过程中,也出现了局部热点(Thermal Hotspots)问题。为此,三星推出了HPB技术(Heat Path Block,热传导路径内存块)来解决这一问题,可将峰值温度降低超过35%,覆盖50%的PHY区域。

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第二阶段:增加功能,从Base Die闲置空间扩充内存容量

在第二阶段,三星计划进一步扩展Base Die的功能,并提出利用Base Die的闲置空间来扩充内存容量。

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随着AI大模型上下文窗口急剧扩大,KV Cache的容量需求也大幅增加。通过在Base Die闲置空间中整合内存扩展控制器与PHY,可进一步扩充内存容量,满足大模型推理对存储容量的需求。

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第三阶段:3D整合,三星推出zHBM方案

在第三阶段,即所谓的“3D整合”阶段,三星正在开发全新的HBM方案——「zHBM」。该方案通过将HBM垂直堆叠于xPU上方,不仅能进一步节省硅面积,还省去了传统2.5D封装所需的中介层(Interposer)。

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zHBM采用分布式I/O(Distributed I/O)架构,以缩短HBM堆叠内部的数据传输距离;3D结构也能消除传统2D界面,为超低功耗系统提供更高的能源效率。功耗的降低主要来自I/O功耗的下降,并通过架构优化移除SerDes,避免不必要的功耗累积。

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与标准HBM4E堆叠相比,三星宣称zHBM可带来70%的能源效率提升,DRAM带宽增加230%,每个DRAM模块最多可节省100W功耗,并让xPU(以GPU为例)额外获得8.3%的功耗空间。三星此次展示的方案,是在单一xPU上方配置4组zHBM堆叠。

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为实现zHBM,三星正在开发包括WoW(Wafer on Wafer,晶圆对晶圆)与HCB(Hybrid Cube Bonding,混合立方键合)在内的先进封装技术,借此实现超高I/O密度,进一步打造整合式SoC-DRAM架构。

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